气相渗透炉CVD/CVI 气相沉积/渗透炉-上海晨华科技股份有限公司

气相渗透炉 先进陶瓷

气相渗透炉

分享到：

在线询价下单

产品详情

一、设备用途：

气相渗透炉主要用于CVD和CVI工艺制备C/C、C/SIC及SIC/SIC复合材料，力学性能优异，

适用于航空航天级别碳基及SIC基复合材料，该设备可用于纵项目SIC包壳管的研制。

C/C复合材料，C/SIC陶瓷基复合材料，热解碳涂层，SIC涂层，以及SIC/SIC复合材料制备。

二、设备特点：

1 立式结构，双层水冷结构设计，炉壳用耐腐蚀材料制成。

2 独特的内罩进排气结构，热场温度均匀性好。

3 气氛控制精确，真空系统配有过滤器，可选配尾气处理系统。

4 控制系统采用PLC加触摸屏控制方式，操作方便，简单。

5 主要电器元件采用施耐德及欧姆龙品牌，性能稳定、可靠。

三、主要技术参数：

— 预约订购类 —

公司名称

您的姓名

联系电话

产品分类

产品名称

留言信息

验证码